【太平洋科技快讯】近日,位于杭州城西科创大走廊的浙江大学成果转化基地传出喜讯:全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”已进入应用测试阶段,其精度比肩国际主流设备,标志着量子芯片研发领域从此有了“中国刻刀”。 据悉…
在杭州城西科创大走廊的核心区域,浙江大学成果转化基地近日宣布了一项重大科技突破:全国首台自主研发的商业级电子束光刻机“羲之”已成功迈入应用测试阶段,其技术性能与国际顶尖设备并驾齐驱,标志着中国在量子芯片制造领域拥有了自主知识产权的“刻刀”。
这款100kV电子束光刻机,是在浙江省重点实验室的坚实支撑下孕育而生的科技结晶,如今已正式开启市场化征程。研发团队自豪地介绍,“羲之”专为量子芯片及新型半导体材料的研发设计而生,利用精密的高能电子束,在硅基底上“精雕细琢”出电路图案,其精度高达0.6纳米,线宽则达到8纳米。尤为“羲之”无需传统掩膜版,设计灵活可变,极大提升了芯片研发初期的调试效率。

长期以来,此类高端光刻设备受限于国际出口管制,导致包括中国科学技术大学、之江实验室在内的众多国内顶尖科研机构面临采购难题。“羲之”的问世,无疑为这一困境带来了曙光。更为振奋人心的是,相较于国际市场同类产品的平均价格,“羲之”展现出了更高的性价比优势,目前正与多家企业及科研机构积极洽谈合作事宜。
这一里程碑式的成就,不仅彰显了中国在高科技领域自主创新的决心与实力,更为全球量子芯片及半导体产业的发展注入了新的活力与可能。
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